Diffusion1 [반도체공정] 이온주입 및 확산공정 (Ion Implantation&Diffusion) 오늘은 이온 주입 및 확산 공정 (Ion Implantation & Diffusion)에 대해 알아보겠습니다. MOSFET을 보면 이온의 농도가 다르게 분포해있습니다. 전압을 걸어주면 전자와 정공이 이동하면서 채널이 형성되고 이 채널을 통해 전류가 흐르면서 on/off가 결정됩니다. 따라서 이온 주입은 필수라고 할 수 있는데요 이온을 어떻게 넣어주는 지 공부해보도록 하겠습니다. 확산 공정에서의 조건 CDS (Constant Source Diffusion): 단위 면적 당 불순물 수 = 농도 = Dose량 LSD(Limited Source Diffusion): 공정이 진행되는 동안 Dose량이 일정해야 됨 이온 주입 및 확산 단계 먼저 pre-deposition 단계에서 이온을 얇게 주입 시킨 후 Driv.. 2023. 1. 17. 이전 1 다음
